NFTS-VI
2源新対向ターゲット式スパッタ
RF/DC pulse電源
ロードロックチャンバー付き
エフ・ティ・エスコーポレーション社製
NFTS-V
7源新対向ターゲット式スパッタ
ロードロックチャンバー付き
エフ・ティ・エスコーポレーション社製
NFTS-IV
7源新対向ターゲット式スパッタ
ロードロックチャンバー付き
エフ・ティ・エスコーポレーション社製
NFTS-II
8源新対向ターゲット式スパッタ
700度までの高温成膜対応
エフ・ティ・エスコーポレーション社製
多元成膜装置
RFスパッタと抵抗加熱蒸着
北野精機社製
共用化設備
超高真空スパッタ装置
2極マグネトロンスパッタリング
高周波反応性スパッタリング
分子線エピタキシー
成膜室到達圧力:1×10^-6Pa以下
北野精機社製
赤外線ランプ加熱装置
高速加熱・冷却
アニール温度:RT~900℃
アルバック社製
イオンミリング装置
ドライエッチング装置
伯東社製
共用化設備
MPMS with EverCool
ヘリウム再凝縮装置付き磁化特性測定装置
SQUID
最大印加磁場: 7 T, 測定温度: 2 K~400 K
Quantum Design社製
共用化設備
XRD
X線回折装置
リガク社製
共用化設備
面内・極磁区観察装置
面内/垂直磁区観察顕微鏡
静止画/動画磁区観察
ネオアーク社製
低温磁気抵抗測定装置1
Cryogenics社製
RT-1.5K,3T超電導磁石
低温磁気抵抗測定装置2
最大印加磁場:2500 Oe
Temperature : 10 K ~ RT
極低温装置
抵抗温度センサー
測定温度:4.2 K~ RT
レイクショア社製