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本研究室では、スパッタ法を用いた磁性薄膜工学および磁気記録技術に関する研究を行っております。
本研究室で開発された『対向ターゲット式スパッタ法』は高速・プラズマフリースパッタ法として、世界一の成膜能力を発揮しています。

当ページにおいては本研究室についての様々な情報を提供しております。


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